Beanie
Beanie von Acne Studios mit folgenden Details: Logo-Patch vorne, gestricktes Design, gerippter Strick, umgeschlagene Krempe.
Pflege
Handwäsche
Zusammensetzung
RWS Wolle 100%
Markeninformation
HATS000165/CUE
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Beanie von Acne Studios mit folgenden Details: Logo-Patch vorne, gestricktes Design, gerippter Strick, umgeschlagene Krempe.
Pflege
Handwäsche
Zusammensetzung
RWS Wolle 100%
Markeninformation
HATS000165/CUE