Mütze
Gerippte Beanie mit Logo-Patch von Acne Studios mit folgenden Eigenschaften: waldgrün, Wolle, Logo-Patch vorne, gerippter Strick, gestricktes Design, umgeschlagene Krempe.
Pflege
Handwäsche
Zusammensetzung
RWS Wolle 100%
Markeninformation
HATS000165/AAZ
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